반도체 팹과 에드워드의 솔루션
작성자 관리자
작성일 24-09-19 10:23
조회수 78
진공 펌프와 가스처리기술의 세계적인 선두주자 에드워드 코리아입니다.
에드워드 코리아가 생산하고 있는 진공 펌프가 가장 많이 적용되고 있는 반도체 팹.
반도체 팹은 무엇이며, 반도체 팹에서 에드워드가 제공하고 있는 솔루션은 무엇일까요?
하기의 글은 에드워드 코리아의 Applications Director인 문병훈 상무와 함께 준비되었습니다.
(*무단 복사, 복제 및 훼손을 금지합니다.)
■ 반도체 팹이란?
Fabrication Facility의 줄임말로 실리콘 웨이퍼 제조 공정을 의미합니다. 전형적인 반도체 팹은 두세 개의 층으로 구성이 되어, 맨 위층이 반도체 칩을 생산과 운반, 그리고 오염 관리를 하는 특수 설비가 배치된 클린룸과 특수가스, 화학물질, 전원 공급 인프라, 냉각기, 진공 펌프 및 배기가스 처리장치 등이 설치되어 있는 서브팹 (또는 플레늄, Plenum)이 있습니다.
클린 룸의 최근거리에서 오염 관리뿐만 아닌 반도체 제조 공정을 제어하기 위해, 클린룸 아래 격자보 형태로 이루어진 공간까지 다양한 유틸리티와 온툴 장치들이 설치되어 있습니다.
■ 반도체 팹에서 에드워드의 역할은?
반도체는 팹 전반과 공정 챔버 등 모든 내·외부 환경에서 미세한 기체 입자까지 제어와 관리를 하는 진공 상태에서 제조가 되어야 합니다. 때문에 최상의 진공 환경을 만들기 위해서 공정 설비가 있는 클린 룸부터 서브 팹까지 에드워드 진공 펌프와 제품들이 다양하게 운영됩니다. 클린 룸에서는 드라이 펌프, 터보 펌프, 그리고 각종 온툴 펌프들이 공정과 시스템 챔버에 근접 거리에서 최적의 공정 조건을 만들어 냅니다.
그리고 웨이퍼 제조가 이루어지는 클린 룸과는 격리되어 드라이 펌프, 칠러, 배기가스 처리(Abatement) 시스템들이 각 공정에 필요한 진공 조건을 형성하고 유해 배기가스를 처리합니다. 에드워드는 다양한 기술 솔루션으로 고객들이 팹에서 위험 없이 안정적으로 새로운 혁신을 주도할 수 있도록 팹의 환경 안전뿐만 아니라 대기 환경 개선에 기여를 하는 역할을 합니다.
■ 에드워드의 핵심 솔루션은?
사례 1) 넓은 공정 확장성을 위한 대용량, 고온 드라이 펌프
사례 2) 파티클 제어 기술이 적용된 터보 분자 펌프
사례 3) 신규 물질 처리에 최적화된 Abatement 시스템
→ 특히 4차 산업 발전에 따라 반도체 칩의 수요도 기하급수적으로 증가하면서 제품의 다양화, 생산성 향상, 등에 대한 수요가 증가하였습니다. 따라서, 반도체 칩 메이커들은 디바이스의 성능 향상과 수율 개선, 그리고 원가 혁신을 동시에 실현해야 하기 때문에 극한의 스케일링, 3D 구조의 개발 등의 고집적화 활동들이 이어지고 있습니다.
사례 1) 기존 드라이 펌프와 Abatement 시스템의 모듈화 및 통합으로 공간과 에너지 효율 향상
→ 이러한 과정에서 신규 물질과 공정 기법들이 생기고, 새로운 기술력 변화에 대응하기 위해 반도체 팹 전반의 이해가 있는 에드워드과 같은 파트너가 필요합니다.
사례 1) CO2, NOx 및 지정 유기물 등의 배기를 최소화하기 위한 플라스마, Burn-Wet 타입의 Abatement 시스템
→ 다양한 국내와 글로벌 경험과 노하우로 팹의 퍼포먼스, 효율, 환경과 안전을 융합된 맞춤형 솔루션을 제공하는 선도적인 브랜드로 꾸준한 노력을 합니다.
사례 1) 안전을 생활 실천하는 문화로써 글로벌 기준의 높은 안전 수칙과 표준으로 엄격 준수
사례 2) 반도체 팹의 상호작용을 이해하는 위치에서 최적의 솔루션을 제공하기 위해 통합 시스템 개발
사례 3) 가장 진보적인 극자외선(EUV) 노광 공정에 대응하는 통합 시스템 개발, 생산
더 자세한 내용은 Edwards의 Innovation Hub 페이지에서 찾아보실 수 있습니다.
How is vacuum changing in your SubFab? - Edwards Vacuum
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